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反射（AR）薄膜材料日本进口
Nb2O5（导电nb2ox）
Nb2O5称为抗反射（AR）薄膜材料的显示器一般采用反应溅射法溅射用金属铌。
在这种情况下，生产率是问题，因为大量的氧流量溅射过程中是必要的。
此外，铌氧化物目标不用于批量生产，由于价格昂贵和缓慢的溅射率目标。
丰岛的nb2ox目标解决小氧气流量和客户以上问题享受高质量的Nb2O5薄膜。
沉积速率
靶负载功率氩氧比厚度
Φ200 pulsedc 3kw 85 / 15 70m
N（折射率）
405nm 550nm 635nm 1550nm
2.35 2.305 2.22
衰减系数（k）
405nm 550nm 635nm 1550nm
1.29e-03 - 1.97e-02 - 1.38e-02 2.54e-12
